拓荆科技(688072)跟踪报告之四：23Q2业绩持续高增长公司产品线不断完善

事件：

公司发布2023 年半年报，营业收入10.04 亿元，同比增长91.83%；归母净利润1.25 亿元，同比增长15.22%；扣非归母净利润0.65 亿元，同比增长32.65%。

点评：

(资料图片仅供参考)

公司一直在高端半导体专用设备领域持续深耕，并重点聚焦薄膜沉积设备的研发和产业化应用。公司面向国内集成电路芯片制造技术发展及市场需求，充分发挥公司在研发团队、技术储备、客户资源及售后服务等方面的优势，紧抓国内半导体产业高速发展的市场机遇，坚持以技术和产品创新驱动业务发展，持续保持新产品、新工艺及新技术的研发和投入，增强产品市场竞争力，同时，持续强化公司运营管理，促进公司持续、稳健、快速的发展，在经营业绩、产品研发、市场销售等诸多方面取得了突出的进展。

公司PECVD 设备型号不断完善。2023 年上半年公司PECVD 设备作为主打产品，持续保持竞争优势，为客户提供高性能的介质薄膜材料，同时，提供不同类型的高产能平台（包括PF-300T、PF-300T eX、NF-300H 等平台），以匹配不同客户不同工艺的性能要求及产能需求。公司在客户产线验证通过的薄膜种类及性能指标类型持续增加，工艺覆盖面不断提升，持续获得批量订单和批量验收，现已广泛应用于国内集成电路制造产线。

2023 年上半年，在PECVD（PF-300T、PF-300T eX）产品方面，公司不断扩大通用介质薄膜材料工艺及先进介质薄膜材料工艺的应用覆盖面，并持续获得客户订单、通过客户产业化验证、扩大量产规模。截至2023 年二季度末，PECVD 通用介质薄膜材料（包括SiO2、SiN、TEOS、SiON、SiOC、FSG、BPSG、PSG 等）和先进介质薄膜材料（包括ACHM、LoKⅠ、LoKⅡ、ADCⅠ、HTN、a-Si 等）均已实现产业化应用。

公司推出的PECVD（NF-300H）型号设备已实现产业化应用，可以沉积Thick TEOS等介质材料薄膜。2023 年上半年，公司持续获得客户订单，并出货至客户端进行验证，验证进展顺利。

公司ALD 设备不断取得新进展。2023 年上半年，公司PE-ALD（PF-300T Astra）设备在客户端验证进展顺利，获得了原有客户及新客户订单，并出货至不同客户进行产业化验证；PE-ALD（NF-300H Astra）设备实现首台产业化应用，取得了突破性进展，该设备主要应用于沉积较厚的PE-ALD 薄膜，具有高产能和低成本的优势。

此外，公司持续拓展PE-ALD 薄膜种类及工艺应用。

2023 年上半年，公司Thermal-ALD（PF-300T Altair、TS-300 Altair）持续获得原有客户及新客户订单，并出货至不同客户端进行产业化验证，验证进展顺利，可以沉积Al2O3 等多种金属化合物薄膜材料。此外，公司持续拓展Thermal-ALD 薄膜种类及工艺应用。

公司SACVD 设备客户验证进展顺利。2023 年上半年，公司SACVD 产品持续提升产品竞争力，积极拓展应用领域，持续获得客户订单及产业化验证。截至2023年二季度末，公司可实现SA TEOS、BPSG、SAF 薄膜工艺沉积的SACVD 设备均通过客户验证，在国内集成电路制造产线的量产规模逐步提升。

盈利预测、估值与评级：公司PECVD 卡位优势明显，ALD、SACVD 及HDPCVD将逐步放量，我们维持公司2023-2025 年的归母净利润预测为5.66、8.51、11.56亿元，对应的PE 值为76x、50x 和37x。考虑到公司是国内半导体CVD 设备龙头，充分受益于下游国产晶圆厂扩建带来的设备需求，我们维持公司“增持”评级。

风险提示：下游需求不及预期风险；新产品研发或客户导入进度不及预期风险；行业竞争加剧风险。